[实用新型]一种清洗设备的滚刷清洗单元无效
| 申请号： | 200720148907.8 | 申请日： | 2007-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN201020465Y | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 于凯 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B11/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种清洗设备的滚刷清洗单元，包括：载物平台；下部滚刷，设置在载物平台下方；暗流清洗单元，设置在载物平台末端上方，多个喷头，直接设置在载物平台上方，喷头的喷洒方向与载物平台成0～90度角度。其中，喷头的喷洒方向与载物平台的运动方向相向；喷头距载物平台的高度为20～50cm。本实用新型通过变更绝缘层沉积前清洗设备的滚刷清洗单元，既不使用上部滚刷和变更喷头的喷淋方向，能够在不影响清洗效果下，消除绝缘层表面划痕，并且由于上部滚刷的不使用，能够显著的降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 设备 单元 | ||
【主权项】：
1.一种清洗设备的滚刷清洗单元，包括：载物平台；下部滚刷，设置在载物平台下方；暗流清洗单元，设置在载物平台末端上方，其特征在于：多个喷头，直接设置在载物平台上方，所述喷头的喷洒方向与载物平台成0～90度角度。
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