[实用新型]一种直拉硅单晶制备用坩埚有效

专利信息
申请号: 200720173483.0 申请日: 2007-09-29
公开(公告)号: CN201089805Y 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 吴志强;戴小林;崔彬;姜舰 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 郭佩兰
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了直拉硅单晶制备用坩埚,它用在一种名为切克劳斯基(或称直拉)法制造的硅单晶生长方法中,硅晶体在生长室内生长。这种直拉硅单晶制备用坩埚包括:坩埚上部、与下轴连接的埚底,所述的坩埚上部的内侧沿坩埚的轴心等分多块拼装加强圈,另一外圈套在加强圈外。本实用新型优点是:该坩埚重量轻、宜安装,它的使用寿命与原有结构的坩埚相当。
搜索关键词: 一种 直拉硅单晶 制备 坩埚
【主权项】:
1.一种直拉硅单晶制备用坩埚,它包括:坩埚上部、与下轴连接的埚底,其特征在于:所述的坩埚上部的内侧沿坩埚的轴心等分多块拼装加强圈,另一外圈套在加强圈外。
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