[实用新型]气体注入喷嘴有效

专利信息
申请号: 200720181418.2 申请日: 2007-10-29
公开(公告)号: CN201182036Y 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: 马德哈唯·R·钱德拉乔德;迈克尔·N·格林博金;吉姆·K·尼古恩;理查德·莱温顿;伊伯拉希姆·M·伊伯拉希姆;希巴·J·潘纳伊尔;阿杰伊·库玛 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;G03F1/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型提供了多个气体注入喷嘴,其适合与等离子体反应器中的气体分布环模制联接以用于处理诸如掩模或晶片的工件。气体注入喷嘴包括具有第一外直径部分和限定顶部的第二外直径部分的中空圆柱体,第一通道形成为纵向穿过此圆柱体并通过第一外直径部分延伸并且至少部分进入到第二外直径部分,第二通道与第一通道同轴地对准并且从第一通道的端部向顶部的端部纵向延伸,其特征在于,第一外直径部分大于第二外直径部分。
搜索关键词: 气体 注入 喷嘴
【主权项】:
1、一种气体注入喷嘴,其适于与等离子体反应器中的气体分布环模制联接,其特征在于,包括:具有第一外直径部分和限定顶部的第二外直径部分的中空圆柱体,第一通道纵向穿过该圆柱体并通过第一外直径部分延伸并至少部分进入第二外直径部分中,以及第二通道与第一通道同轴地对准并从第一通道的端部向顶部的端部纵向延伸,其中第一外直径部分大于第二外直径部分。
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