[发明专利]保护薄膜用基材薄膜及保护薄膜积层偏光板无效
| 申请号： | 200780000066.9 | 申请日： | 2007-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101213478A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 藤井行治;中村琢司;稻沢弘志;池永启昭;今关敏雄 | 申请（专利权）人： | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B27/36 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是提供一种双折射率小，且具优异耐溶剂性、加热时的耐热性的保护薄膜用基材薄膜，以及由层积此膜所形成的保护薄膜积层偏光板。其中，是在聚碳酸酯膜的两面层积聚酯膜而形成的无配向三层膜，且构成所述三层膜的聚碳酸酯膜膜厚对聚酯膜膜厚的比率(聚碳酸酯膜膜厚/聚酯膜膜厚)为大于0.1、小于5的保护薄膜用基材薄膜，以及在偏光板的单面或两面上层积保护薄膜用基材薄膜所形成的保护薄膜积层偏光板。 | ||
| 搜索关键词： | 保护 薄膜 基材 偏光 | ||
【主权项】：
1.一种保护薄膜用基材薄膜，其特征在于：是由在聚碳酸酯膜的两面层积聚酯膜而成的无配向三层膜所形成，构成所述三层膜的聚碳酸酯膜膜厚对聚酯膜膜厚的比率(聚碳酸酯膜膜厚/聚酯膜膜厚)为大于0.1、小于5。
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