[发明专利]X射线源和荧光X射线分析装置无效
| 申请号： | 200780000164.2 | 申请日： | 2007-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN101310359A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 青木延忠;角谷晶子 | 申请（专利权）人： | 东芝电子管器件株式会社 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08;G01N23/223;H01J35/10;H01J35/18;H01J35/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 设置叠在主靶(18)上的副靶(19)。电子枪(14)产生的电子束(15)入射到主靶(18)，主靶(18)使连续X射线(20)穿透并放射。副靶(19)使主靶(18)放射的连续X射线(20)激励的特性X射线(21)穿透并放射。将主靶(18)和副靶(19)叠置，使主靶(18)放射的连续X射线(20)高效率地激励副靶(19)，高效率地产生特性X射线(21)。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 荧光 分析 装置 | ||
【主权项】：
1、一种X射线源，其特征在于，具备：产生电子束的电子枪；从所述电子枪入射电子束，而且使X射线穿透并放射的主靶；以及副靶，该副靶配置成叠在所述主靶上，而且使由所述主靶放射的X射线激励的特性X射线穿透并放射。
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