[发明专利]层叠线圈元器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780001111.2 申请日: 2007-01-11
公开(公告)号: CN101356598A 公开(公告)日: 2009-01-28
发明(设计)人: 伊藤阳一郎;内藤修 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01F17/00 分类号: H01F17/00;H01F41/04;H01F17/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 张鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明在开放磁路型的层叠线圈元器件中,提高直流叠加特性。是将线圈用导体图案(5)与陶瓷片材层叠而形成的内置线圈(L)的层叠线圈元器件(1)。在上述陶瓷片材中,包括:第1陶瓷片材、以及具有比该第1陶瓷片材低的磁导率的第3陶瓷片材(4)。在上述线圈(L)的包括线圈轴的剖面中,上述第3陶瓷片材(4)具有跨过在层叠方向上相邻的2个以上的上述线圈用导体图案(5)的形状。
搜索关键词: 层叠 线圈 元器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种层叠线圈元器件,其特征在于,在将导电体与绝缘层层叠而形成的内置线圈的层叠线圈元器件中,在所述绝缘层中包括:第1绝缘层、以及具有比该第1绝缘层低的磁导率的第2绝缘层,在所述线圈的包括线圈轴的剖面中,所述第2绝缘层具有跨过层叠方向上相邻的2个以上的所述导电体的形状。
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