[发明专利]层叠线圈元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200780001112.7 | 申请日： | 2007-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101356599A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 山口公一 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H01F17/00 | 分类号： | H01F17/00;H01F17/02;H01F41/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供不容易产生磁导率不同的层间的裂纹及脱层的开放磁路型的层叠线圈元件及其制造方法。将形成线圈用导体图形(5)的第1陶瓷片(2)与具有比第1陶瓷片(2)低的磁导率的第3陶瓷片(4)层叠，并内置将该线圈用导体图形(5)彼此之间电连接而构成的线圈的层叠线圈元件(1)。前述第3陶瓷片(4)被第1陶瓷片(2)夹住。在前述第3陶瓷片(4)的主面上形成孔(7)。与前述第3陶瓷片(4)邻接的第1陶瓷片(2)与孔(7)的内周面接触。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 线圈 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种层叠线圈元件，将形成线圈导体的磁性体层与具有比该磁性体层低的磁导率的低磁导率层层叠，并内置将该线圈导体彼此之间电连接而构成的线圈，其特征在于，所述低磁导率层被所述磁性体层夹住，在所述低磁导率层的主面上形成孔或凹下部分，与所述低磁导率层邻接的所述磁性体层与所述孔或凹下部分的内周面接触。
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