[发明专利]宽带光耦合到薄的SOI CMOS集成光路有效

专利信息
申请号: 200780002232.9 申请日: 2007-01-11
公开(公告)号: CN101371175A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 马格利特·吉龙;普拉卡什·约托斯卡;约翰·芳曼;罗伯特·凯斯·蒙特哥莫里;玛丽·纳多 申请(专利权)人: 斯欧普迪克尔股份有限公司
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 王漪;郑霞
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于提供光耦合进和耦合出相对薄的硅波导的装置,所述相对薄的硅波导在SOI结构的SOI层中形成,所述装置包括透镜元件和在SOI结构中界定的、用于以高效的方式提供光耦合的参考表面。波导的输入可来自光纤或光发送器件(激光器)。相似的耦合装置可用在薄的硅波导与输出光纤(单模光纤或多模光纤)之间。
搜索关键词: 宽带 耦合 soi cmos 集成
【主权项】:
1.一种用于提供向/来自形成在绝缘体上硅(SOI)结构的上部硅层(SOI层)中的相对薄的硅波导的光耦合的装置,所述绝缘体上硅(SOI)结构包括硅衬底、上覆的隐埋氧化物层和所述上部硅层(SOI层),所述薄的硅波导形成为包括沿通过所述SOI结构的厚度的一部分形成的深沟槽的端面终端,所述耦合装置包括:透镜元件,其用于将传播的光信号耦合进/出所述薄的硅波导的所述端面终端;参考面,其界定在所述SOI结构的相邻层之间的界面处;以及参考结构,其用于支承所述透镜元件,所述参考结构连接到所述SOI结构,用于提供所述薄的硅波导和所述透镜元件之间的聚焦对准。
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