[发明专利]光源装置有效
| 申请号： | 200780002590.X | 申请日： | 2007-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101371192A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 奥野俊明 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/383 | 分类号： | G02F1/383 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光源装置，其具有可以生成SC光的基本构造，同时还具有可以对该SC光的频谱波形进行整形、功率调节、或对包含该SC光的脉冲列的重复频率进行调节的构造。例如，可以对频谱波形进行整形的光源装置具有：种光源，其射出作为脉冲列或连续光的种光；光纤，其基于该种光生成SC光；以及频谱整形单元，其使该SC光的频谱波形整体或部分地变化。频谱波形的整形是指，例如通过使种光源和光纤之间的光耦合效率变化而使种光的最大功率变化，由此使SC光的频谱适当地变形。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光源装置，其具有：种光源，其射出种光；光纤，其与上述种光源光学连接，使来自上述种光源的种光输入而生成频谱宽度扩大后的超连续光；以及频谱整形单元，其用于使由上述光纤生成的超连续光的频谱波形部分或整体地变形。
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