[发明专利]改善带状离子束的均一性的技术有效
申请号: | 200780002657.X | 申请日: | 2007-01-19 |
公开(公告)号: | CN101371327A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 肯尼士·H·波什;阿塔尔·古普塔 | 申请(专利权)人: | 瓦里安半导体设备公司 |
主分类号: | H01J37/147 | 分类号: | H01J37/147;H01J37/30 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 美国麻*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明是有关一种用于改善带状离子束的均一性的技术。在一特定例示性实施例中,装置可包含第一修正器条总成以及第二修正器条总成,其中第二修正器条总成位于距第一修正器条总成一段预定距离处。第一修正器条总成中的第一多个线圈中的每一个可经个别地激励以使带状离子束中的至少一细离子束偏转,藉此使细离子束以所要空间扩展来到达第二修正器条总成。第二修正器条总成中的第二多个线圈中的每一个可经个别地激励以使带状离子束中的一个或多个细离子束进一步偏转,藉此使细离子束以所要角度离开第二修正器条总成。 | ||
搜索关键词: | 改善 带状 离子束 均一 技术 | ||
【主权项】:
1.一种用于改善具有多个细离子束的带状离子束的均一性的装置,其特征在于所述装置包含:第一修正器条总成,其具有第一组磁心部件以及沿着所述第一组磁心部件分布的第一多个线圈;以及第二修正器条总成,其具有第二组磁心部件以及沿着所述第二组磁心部件分布的第二多个线圈,其中所述第二修正器条总成位于距所述第一修正器条总成一段预定距离处,其中所述第一多个线圈中的每一个经个别地激励以使所述带状离子束中的至少一细离子束偏转,藉此使所述多个细离子束以所要空间扩展来到达所述第二修正器条总成,以及其中所述第二多个线圈中的每一个经个别地激励以使所述带状离子束中的一个或多个细离子束进一步偏转,藉此使所述多个细离子束以所要角度离开所述第二修正器条总成。
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