[发明专利]具有抗反射性和高碳含量的聚合物及含有该聚合物的硬掩模组合物以及形成图案化材料层的方法有效
| 申请号： | 200780002790.5 | 申请日： | 2007-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101370849A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 尹敬皓;金钟涉;鱼东善;吴昌一;邢敬熙;金旼秀;李镇国 | 申请（专利权）人： | 第一毛织株式会社 |
| 主分类号： | C08G61/10 | 分类号： | C08G61/10 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了抗反射硬掩模组合物。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式A、式B或式C表示的至少一种聚合物，这些在说明书中有描述。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 含量 聚合物 含有 模组 以及 形成 图案 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种双苯基芴主链聚合物，该聚合物由式A表示：![]()
其中：芴基为未取代的或取代的，m为至少1并小于约750，n为至少1并小于约750，R1为亚甲基或包括含非芴芳基的连接基团，R2为氧或具有1至约7个碳的烷氧基，其中烷氧基的氧与氢H或基团G结合，且G为乙烯基或烯丙基。
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