[发明专利]制备多层光记录介质的方法和压模以及制造该压模的方法无效
| 申请号： | 200780003792.6 | 申请日： | 2007-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101374650A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | 住冈由香里 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B29D17/00 | 分类号： | B29D17/00;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于制备多层光记录介质的压模，其能够用简单的步骤制备且可以被重复地使用。特别地，提供一种用于制备多层光记录介质的压模(115)，包括：透光的基板(111)；和透光的无机抗蚀剂层(112)，其中在基板上形成坑或导槽。而且，所述压模对用于图案化所述无机抗蚀剂层的曝光的光具有10％或更大的吸收率，且对当压模被使用时所使用的紫外线具有19％或更大的透射率。而且，所述无机抗蚀剂层包含具有其中从化学计量成分丢失氧的成分的氧化钨或氧化钼。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 多层 记录 介质 方法 以及 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备多层光记录介质的压模，包括：透光的基板；和透光的无机抗蚀剂层，其中在所述透光的基板上形成坑和导槽之一。
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