[发明专利]包括具有折射率分布的中孔涂层的制品,及其制备方法无效
申请号: | 200780004338.2 | 申请日: | 2007-02-02 |
公开(公告)号: | CN101379416A | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | J·比托;J-P·博洛特;M·卡代;H·卡杜;T·加科恩;M·马赛伦;P·鲁瓦松;L·瓦加查吉安 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B6/028;G02B1/11 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种包括具有由涂层涂覆的主表面的基底的制品,部分该涂层至少是中孔性的且具有带有光学功能的折射率分布,其变化由中孔含量和/或中孔的填充率施加。该分布可以是使得折射率依据在特定轴向上的距离而变化,或者使得折射率变化是单调的,沿着垂直于在所述涂层的中孔部分下面的基底的表面且远离该基底定向的任何轴降低。本发明还涉及制备所述制品的方法,其依据形成该折射率分布的技术而不同。本发明可应用于眼科光学器件。 | ||
搜索关键词: | 包括 具有 折射率 分布 涂层 制品 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种制品,其包括具有由涂层覆盖的主表面的基底,部分该涂层至少是中孔性的,其中所述涂层的中孔部分具备带有光学功能的折射率分布,其变化由中孔含量和/或中孔的填充率赋予。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃西勒国际通用光学公司,未经埃西勒国际通用光学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780004338.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种香兰素微胶囊的制备方法
- 下一篇:由防爆伺服电机驱动的进料装置