[发明专利]施加控制单元有效

专利信息
申请号: 200780004747.2 申请日: 2007-02-06
公开(公告)号: CN101379450A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 彼得·基佩弗;克里斯蒂安·贝齐昂;贝恩德·瓦尔泽 申请(专利权)人: 莱卡地球系统公开股份有限公司
主分类号: G05D1/02 分类号: G05D1/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 党晓林
地址: 瑞士海*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 一种用于施加单元(1c)的施加控制器,所述施加单元用于标记物质,该施加控制器包括辐射传感器(2’),通过它可以确定施加单元(1c)相对于参考平面(RE)的相对位置。施加单元(1c)的相对位置可以通过记录施加单元控制器相对于参考平面(RE)的方位(6’)而从位置和方位信息的关联来确定,从而控制指令,特别是用于位置校正的控制指令可以通过施加单元控制器产生。施加单元(1c)的位置能通过致动器(8)根据控制指令来调节。
搜索关键词: 施加 控制 单元
【主权项】:
1.一种用于可移动施加单元(1a,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h,1i,1j)的施加控制单元,所述施加单元用于标记物质,该标记物质用来产生特别是运动场地(SF)的地面标记(M,M’),所述施加控制单元包括一个能安装在施加单元上并用来接收电磁参考信号(RS,RS’,RS”,RS”’)的辐射传感器(2),所述辐射传感器(2)以这样的方式形成,即施加单元(1a,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h,1i,1j)相对于参考平面(RE)的位置能基于所接收的参考信号(RS,RS’,RS”,RS”’)而导出,其中所述参考平面(RE)由所述参考信号(RS,RS’,RS”,RS”’)确定,其特征在于,用于确定所述施加控制单元相对于所述参考平面(RE)的方位的装置,通过所述施加控制单元,能够—确定所述施加单元(1a,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h,1i,1j)相对于所述参考平面(RE)的位置,并且—为所述施加单元(1a,1b,1c,1d,1e,1f,1g,1h,1i,1j)提供控制指令,尤其是用于位置校正。
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