[发明专利]用于微光刻投影曝光设备的照射系统有效
| 申请号： | 200780005542.6 | 申请日： | 2007-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101384966A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | J·旺格勒;H·西克曼;K·怀布尔;R·沙恩韦贝尔;M·毛尔;M·德古恩瑟;M·莱;A·肖尔茨;U·施彭格勒;R·弗尔克尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于 静 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括光源(30)和光学积分器(56)。后者具有第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y)并且产生每个发射光束的多个二次光源(82)。聚光器使得所述光束在掩模面(70)中重叠。至少一个散射结构(58、60)包括设置在所述二次光源前面或者后面的多个单独设计的第二光学子元件。所述第一和第二光学子元件被配置使得由相同的辐照分布照射的光学子元件被隔开5mm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微光 投影 曝光 设备 照射 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括:a)光源(30)；b)光学积分器(56)，其包括第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y)并且产生每个发射光束的多个二次光源(82)；c)聚光器(62)，其使得所述光束在掩模面(70)中重叠；以及d)至少一个散射结构(58、60)，其包括设置在所述二次光源前面或者后面的多个第二光学子元件，其中所述第一和第二光学子元件被配置使得由相同的辐照分布照射的光学子元件被隔开5mm以上。
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