[发明专利]从辐照的226Ra-目标物中提纯225Ac的工艺有效

专利信息
申请号: 200780006072.5 申请日: 2007-02-19
公开(公告)号: CN101390171A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 约苏埃·曼纽尔·莫雷诺·贝穆德斯;安德里亚·特勒;理查德·亨克尔曼;伊娃·卡巴伊;恩斯特·欣格斯 申请(专利权)人: 艾科提医药公司
主分类号: G21G4/08 分类号: G21G4/08;C01F17/00;C22B60/02
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 吴小瑛
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明描述了一种从支撑物上的辐照的226Ra-目标物中提纯225Ac的工艺,该工艺包括对226Ra-目标物进行淋洗处理,其利用硝酸或盐酸浸出基本上所有的225Ac和226Ra,接着进行第一萃取层析,用于从226Ra和其他Ra同位素中分离225Ac,和第二萃取层析,用于从210Po和210Pb中分离225Ac。最终纯化的225Ac可用于制备制药用的组合物。
搜索关键词: 辐照 sup 226 ra 目标 提纯 225 ac 工艺
【主权项】:
1.从支撑物上的辐照的226Ra-目标物提纯225Ac的工艺,其包括如下步骤:a)对226Ra目标物进行至少一次的浸出处理,在回流条件下利用硝酸或盐酸浸出基本上所有的225Ac和226Ra;b)如果步骤b)中的溶剂是盐酸,除去HCl,然后将得到的物质重新溶解在硝酸中;c)浓缩含有225Ac和226Ra的萃取物;d)至少一次通过采用其上涂有第一萃取剂体系的固体支撑物材料的第一萃取层析,将225Ac与226Ra和其他Ra同位素分离,所述第一萃取剂体系包括至少一种通式II的化合物中的至少一种通式I的化合物,式I式II其中式I中:R1,R2独立为辛基、n-辛基、苯基或被C1~C3烷基取代的苯基;R3,R4独立为丙基、异丙基、丁基或异丁基;其中式II中:R5,R6和R7独立为C2~C5烷基,特别是,丁基或异丁基;e)用稀释的硝酸或盐酸进行洗脱,225Ac残留在固定相中的固体支撑物上,而226Ra则会通过;f)至少一次通过采用其上涂有第二萃取剂体系的固体支撑物材料的第二萃取层析,将225Ac与210Po和210Pb分离,所述第二萃取剂体系包括至少一种通式IV的化合物中的至少一种通式III的化合物;式IIIR10——OH式IV其中通式III中:R8和R9独立为H、C1~C6烷基或t-丁基;和其中通式IV中:R10为C4~C12烷基;g)用2M HCl作为流动相;和h)从通过的流体中还原225Ac,而210Po和210Pb则保留在固体支撑物上。2.从支撑物上的辐照的226Ra-目标物中提纯225Ac的工艺,其包括如下步骤:a)对226Ra目标物进行至少一次的浸出处理,在回流条件下利用硝酸或盐酸浸出基本上所有的225Ac和226Ra;b)如果步骤b)中的溶剂是盐酸,除去HCl,然后将得到的物质重新溶解在硝酸中;c)浓缩含有225Ac和226Ra的萃取物;d)至少一次通过采用其上涂有第一萃取剂体系的固体支撑物材料的第一萃取层析,将225Ac与226Ra和其他Ra同位素分离,所述第一萃取剂体系包括至少一种通式IA的化合物,式IA其中式IA中:R1a,R2a,R3a,R4a独立为辛基或2-乙基己基;e)用浓度范围在0.3M~0.01M的硝酸或1M~0.05M的盐酸进行洗脱,225Ac残留在固定相中的固体支撑物上,而226Ra则会通过;f)至少一次通过采用其上涂有第二萃取剂体系的固体支撑物材料的第二萃取层析,将225Ac与210Po和210Pb分离,所述第二萃取剂体系包括至少一种通式IV的化合物中的至少一种通式III的化合物;式IIIR10——OH式IV其中式III中:R8和R9独立为H、C1~C6烷基或t-丁基;和其中式IV中:R10为C4~C12烷基;g)用2M HCl作为流动相;和h)从通过的流体中还原225Ac,而210Po和210Pb则保留在固体支撑物上。
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