[发明专利]成膜装置和发光元件的制作方法无效
申请号: | 200780006400.1 | 申请日: | 2007-02-20 |
公开(公告)号: | CN101390450A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 野泽俊久;渡边伸吾 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H01L51/50;C23C14/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种成膜装置和发光元件的制造方法。上述成膜装置的特征在于,包括:在内部具有保持被处理基板的保持台的处理容器;使含有金属的成膜原料蒸发或者升华而生成气体原料、且设置在上述处理容器的外部的气体原料生成部;向上述处理容器内供给上述气体原料的气体原料供给部;和将上述气体原料从上述气体原料生成部输送至上述气体原料供给部的输送通路,以在上述被处理基板上的包括发光层的有机层上形成含有金属的层的方式构成。 | ||
搜索关键词: | 装置 发光 元件 制作方法 | ||
【主权项】:
1. 一种成膜装置,其特征在于,包括:在内部具有保持被处理基板的保持台的处理容器;使含有金属的成膜原料蒸发或者升华而生成气体原料、且设置在所述处理容器的外部的气体原料生成部;向所述处理容器内供给所述气体原料的气体原料供给部;和将所述气体原料从所述气体原料生成部输送至所述气体原料供给部的输送通路,以在所述被处理基板上的包括发光层的有机层上形成含有金属的层的方式构成。
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