[发明专利]光选择性吸收层及其制备方法有效
| 申请号： | 200780006506.1 | 申请日： | 2007-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101389783A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 殷志强 | 申请（专利权）人： | 殷志强 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;F24J2/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 殷 骏 |
| 地址： | 100084中国北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光选择性吸收层及其制备方法，该光选择性吸收层由在真空镀膜技术下铁铬合金与非金属气体反应沉积形成的复合材料薄膜构成，所述非金属气体优选为包含氮和氧元素的气体。本发明还涉及包含所述光选择性吸收层的太阳能集热元件或太阳能选择性吸收涂层体系及其制备方法，以及所述复合材料薄膜作为太阳能集热元件或太阳能选择性吸收涂层体系的光选择性吸收层的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 吸收 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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