[发明专利]金属表面处理用组成物、金属表面处理方法、以及金属材料有效
| 申请号： | 200780007296.8 | 申请日： | 2007-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN101395300A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 印部俊雄;托马斯·科尔伯格 | 申请（专利权）人： | 日本油漆株式会社;凯密特尔有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C22/48 | 分类号： | C23C22/48;C09D183/08;B32B15/04;C25D9/10 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属表面处理用组成物、金属表面处理方法、以及金属材料，所述金属表面处理用组成物能够形成可以获得基材覆盖性、涂膜紧密附着性、和耐蚀性的化学转化皮膜。本发明的金属表面处理用组成物含有锆化合物及/或钛化合物、以及有机硅氧烷，此有机硅氧烷是有机硅烷的缩聚物，并且一分子中具有至少两个氨基；由下述数学式(1)所表示的所述有机硅氧烷的缩聚率为40％以上；金属表面处理用组成物中的锆化合物及/或钛化合物的含量、以及金属表面处理用组成物中的有机硅氧烷的含量为规定含量；锆化合物及/或钛化合物中所含的锆元素及/或钛元素相对于有机硅氧烷中所含的硅元素的质量比为规定的质量比。 | ||
| 搜索关键词： | 金属表面 处理 组成 方法 以及 金属材料 | ||
【主权项】：
1、一种用于金属表面处理的金属表面处理用组成物，其特征在于：该金属表面处理用组成物含有锆化合物及/或钛化合物、以及有机硅氧烷，所述有机硅氧烷是有机硅烷的缩聚物，并且一分子中具有至少两个氨基；由下述数学式(1)所表示的所述有机硅氧烷的缩聚率为40％以上；以金属元素换算，所述金属表面处理用组成物中的所述锆化合物及/或钛化合物的含量为10ppm以上、10000ppm以下；以硅元素换算，所述金属表面处理用组成物中的所述有机硅氧烷的含量为1ppm以上、2000ppm以下；所述锆化合物及/或钛化合物中所含的锆元素及/或钛元素相对于所述有机硅氧烷中所含的硅元素的质量比为0.5以上、500以下；缩聚率％＝有机硅氧烷的质量×100/(未反应的有机硅烷的质量+有机硅氧烷的质量)……数学式(1)数学式(1)中，有机硅氧烷的质量是指二聚物以上的有机硅氧烷的质量，不包含未反应的有机硅烷的质量。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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