[发明专利]用于曝光控制的系统、方法和设备有效
| 申请号： | 200780007696.9 | 申请日： | 2007-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN102017608A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 全舒学;钱川·安德鲁·秋;江晓云 | 申请（专利权）人： | 高通股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N9/04;G06K9/34;G06K9/46 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘国伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 各实施例包含其中根据颜色对图像的像素进行分类的图像处理方法。根据所述像素分类执行曝光控制操作。在一个实例中，基于预测传感器响应根据颜色空间的预定分段对所述像素进行分类。在另一实例中，根据从至少两种颜色中选定的颜色对所述像素进行分类。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 控制 系统 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种图像处理方法，所述方法包括：根据颜色空间的预定分段对图像的多个像素中的每一者进行分类；及基于所述对多个像素中的每一者进行分类的结果，执行曝光控制操作，其中所述图像基于由传感器捕捉的原始图像，且其中所述颜色空间的所述预定分段基于所述传感器的多个预测响应。
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