[发明专利]投影光学系统和图像投影装置有效
| 申请号： | 200780007707.3 | 申请日： | 2007-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101395516A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 安部一成;藤田和弘;高浦淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G02B13/16 | 分类号： | G02B13/16;G02B13/18;G03B21/00;H04N5/74 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王 冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种投影光学系统，包括第一光学系统和第二光学系统，第一光学系统构成为形成与物体共轭的第一图像，第二光学系统构成为朝投影面投影与第一图像共轭的第二图像，其中至少第一光学系统和第二光学系统之一包括相对于所述物体可移动的至少一个光学元件，其中，通过相对于所述物体移动所述光学元件中的至少一个，改变投影光学系统的像距和改变第二图像的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 图像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种投影光学系统，包括第一光学系统和第二光学系统，第一光学 系统构成为形成与物体共轭的第一图像，第二光学系统构成为朝投影面投影 与第一图像共轭的第二图像，至少第一光学系统和第二光学系统之一包括相 对于所述物体可移动的至少一个光学元件，其中，通过相对于所述物体移动 所述光学元件中的至少一个，改变投影光学系统的像距和改变第二图像的尺 寸。
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