[发明专利]氢透过分离薄膜无效
| 申请号： | 200780007880.3 | 申请日： | 2007-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN101394918A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 喜多晃一;青木清;石川和宏 | 申请（专利权）人： | 三菱麻铁里亚尔株式会社;国立大学法人北见工业大学 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;C01B3/56;H01M8/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供氢透过分离薄膜，其为包含Ni-Ti-Nb合金的氢透过分离薄膜，上述Ni-Ti-Nb合金包含通过辊急冷法而获得的厚度0.07mm以下的铸造箔材的调质热处理材料，其具有(a)含有Nb：10～47原子％、Ti：20～52原子％、余量包含Ni和不可避免杂质(含有Ni：20～48原子％)的成分组成；和(b)在以包含Nb取代Ni-Ti金属间化合物中Ti的一部分的状态固溶含有的Ni-Ti(Nb)金属间化合物的基体中，分散分布有在Nb中固溶Ni和Ti而成的Nb基固溶合金的微细粒的合金组织；以及氢透过分离薄膜，其为包含Nb-Ti-Ni合金的氢透过分离薄膜，上述Nb-Ti-Ni合金包含通过辊急冷法而获得的厚度0.07mm以下的铸造箔材的调质热处理材料，其具有(a’)含有Ni：10～32原子％、Ti：15～33原子％、余量包含Nb和不可避免杂质(含有Nb：48～70原子％)的成分组成；和(b’)在包含Nb中固溶Ni和Ti而成的Nb基固溶合金的基体中，分散分布有以Nb取代Ni-Ti金属间化合物中Ti的一部分的状态固溶含有的Ni-Ti(Nb)金属间化合物的微细粒的合金组织。 | ||
| 搜索关键词： | 透过 分离 薄膜 | ||
【主权项】：
1. 一种氢透过分离薄膜，其为包含Ni-Ti-Nb合金的氢透过分离薄膜，其特征在于，该Ni-Ti-Nb合金包含通过辊急冷法而获得的厚度0.07mm以下的铸造箔材的调质热处理材料，具有下述(a)成分组成和(b)的合金组织：(a)含有Nb：10～47原子％、Ti：20～52原子％、余量包含Ni：20～48原子％和不可避免杂质的成分组成，和(b)在以包含Nb取代Ni-Ti金属间化合物中Ti的一部分的状态固溶含有的Ni-Ti(Nb)金属间化合物的基体中，分散分布有在Nb中固溶Ni和Ti而成的Nb基固溶合金的微细粒的合金组织。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱麻铁里亚尔株式会社;国立大学法人北见工业大学，未经三菱麻铁里亚尔株式会社;国立大学法人北见工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780007880.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
