[发明专利]用于减少沉积系统中粒子污染的方法和设备有效
申请号: | 200780009285.3 | 申请日: | 2007-03-05 |
公开(公告)号: | CN101405433A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 铃木健二;五味淳;原正道;水泽宁 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李 剑;南 霆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明描述了用于减少沉积系统(1)中衬底(25)的粒子污染的方法和系统。沉积系统包括布置在其中并被配置来防止或部分地防止膜前驱体粒子的通过、或者打散或部分地打散膜前驱体粒子的一个或多个粒子扩散器(47)。粒子扩散器可以安装在膜前驱体蒸发系统(50)、或蒸汽传输系统(40)、或蒸汽分配系统(30)内,或者其中两者或更多者内。 | ||
搜索关键词: | 用于 减少 沉积 系统 粒子 污染 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于在衬底上形成难熔金属膜的沉积系统,包括:处理室,所述处理室具有被配置来支撑所述衬底并加热所述衬底的衬底夹持器、被配置来在所述衬底上方引入金属前驱体蒸汽的蒸汽分配系统、以及被配置来抽空所述处理室的泵系统;金属前驱体蒸发系统,金属前驱体蒸发系统被配置来使金属前驱体蒸发以形成金属前驱体蒸汽;蒸汽传输系统,所述蒸汽传输系统具有耦合到所述金属前驱体蒸发系统的出口的第一端和耦合到所述处理室的所述蒸汽分配系统的入口的第二端;载气供应系统,所述载气供应系统耦合到所述金属前驱体蒸发系统或所述蒸汽传输系统中的至少一者或两者,并被配置来供应载气以将所述载气中的所述金属前驱体蒸汽通过所述蒸汽传输系统输运到所述蒸汽分配系统的入口;和一个或多个粒子扩散器,所述一个或多个粒子扩散器沿着所述载气和所述金属前驱体蒸汽的流动路径布置在所述沉积系统内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的