[发明专利]原子层沉积系统以及用于涂覆柔性衬底的方法有效
申请号: | 200780009875.6 | 申请日: | 2007-03-26 |
公开(公告)号: | CN101406108A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 艾瑞克·R.·狄奇;威廉·A.·巴罗 | 申请(专利权)人: | 罗特斯应用技术公司 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;C23C14/54 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 许 静 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于柔性衬底上的原子层沉积(ALD)的系统和方法涉及在间隔开的第一与第二前驱体区(14、16、114、116、314、316)之间往复引导所述衬底(12、112、316),使得所述衬底多次穿行通过所述前驱体区中的每一者。系统可包含沿着所述前驱体区被间隔开的一系列转向引导件(64、66、164、166、364、366),例如辊,用于沿着起伏的传送路径支撑所述衬底。当所述衬底在前驱体区之间往复横穿时,其通过隔离区(20、120、320)的一系列限流通路(54、56、154、156、354、356),惰性气体被注射到所述隔离区(20、120、320)中以抑制前驱体气体迁移出所述前驱体区。还揭示用于利用两个以上前驱体化学物质并用于使从所述前驱体区排出的前驱体气体再循环的系统和方法。 | ||
搜索关键词: | 原子 沉积 系统 以及 用于 柔性 衬底 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于将薄膜沉积在柔性衬底上的系统,其包括:第一前驱体区,当所述系统在使用中时将第一前驱体气体引入到所述第一前驱体区中;第二前驱体区,当所述系统在使用中时将不同于所述第一前驱体气体的第二前驱体气体引入到所述第二前驱体区中;隔离区,其介于所述第一与第二前驱体区之间,当所述系统在使用中时,将惰性气体引入到所述隔离区中,所述隔离区包含一系列限流通路,所述限流通路向所述第一与第二前驱体区开放且经布置以提供一系列路径,柔性衬底沿着所述路径在所述第一前驱体区与所述第二前驱体区之间往复横穿多次且每次均通过所述隔离区;以及衬底传送机构,其包含:多个第一转向引导件,其沿着所述第一前驱体区被间隔开,所述第一转向引导件中的至少一些转向引导件适于在所述衬底朝着所述第二前驱体区的行进方向变化期间支撑所述衬底,以及多个第二转向引导件,其沿着所述第二前驱体区被间隔开,所述第二转向引导件中的至少一些转向引导件适于在所述衬底朝着所述第一前驱体区的行进方向变化期间支撑所述衬底。
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