[发明专利]磁盘及其制造方法无效
| 申请号： | 200780011318.8 | 申请日： | 2007-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN101410893A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | 铃木宏太;富安弘 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/725 | 分类号： | G11B5/725;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王 旭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在包含在基板上的磁性层、保护层和润滑层的磁盘中，所述润滑层由自组装单分子层形成。所述自组装单分子层的材料是烃-基硅烷试剂或部分氟化的烃-基硅烷试剂。在所述基板上依次形成所述磁性层和所述保护层(P)，然后将其上形成所述磁性层和所述保护层(P)的所述基板浸入到含有所述烃-基硅烷试剂或所述部分氟化的烃-基硅烷试剂的溶液中，从而在所述保护层(P)上形成润滑层(L)。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘，所述磁盘包含在基板上的磁性层、保护层和润滑层，其中所述润滑层由自组装单分子层形成。
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