[发明专利]光学层积体和光学层积体的制造方法有效
| 申请号： | 200780011431.6 | 申请日： | 2007-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101410247A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | 中岛正隆;木下阳子;伊藤洁 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B7/02 | 分类号： | B32B7/02;B32B27/00;G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学层积体和光学层积体的制造方法，所述光学层积体兼备优异的抗静电性能和密合性。该光学层积体通过在透光性基材上依次形成抗静电层和硬膜层而构成，在上述层积体的截面外观上，上述硬膜层的截面纹样存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层积 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光学层积体，该光学层积体是通过在透光性基材上依次形成抗静电层和硬膜层而构成的光学层积体，其特征在于，在所述层积体的截面外观上，所述硬膜层的截面纹样(截面图案)存在于从硬膜层经由抗静电层到透光性基材中。
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