[发明专利]用于外延膜层形成的集束型设备有效
| 申请号： | 200780012517.0 | 申请日： | 2007-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN101415865A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | A·V·萨蒙罗弗 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陆 嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文提供多种系统、方法以及设置，有关于在外延膜层形成之前，以集束型设备预先清洁基版(在第一处理腔室内使用第一气体)，在真空中通过输送腔室将基板从第一处理腔室传送至第二处理腔室，以及不需利用第一气体即在第二处理腔室内的基板上形成外延膜层。还揭示许多额外的方面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 外延 形成 集束 设备 | ||
【主权项】：
1. 一种形成外延膜层的方法，其至少包含：在外延膜层形成之前，利用一第一气体预先清洁位在一第一处理腔室内的一基板；在真空下，通过一输送腔室，将该基板从该第一处理腔室传送至一第二处理腔室；以及不需利用该第一气体即可形成一外延膜层在该第二处理腔室中的该基板上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司，未经应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780012517.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
