[发明专利]光寻址空间光调制器以及方法有效

专利信息
申请号: 200780012853.5 申请日: 2007-03-02
公开(公告)号: CN101421664A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: J·A·萨克斯;J·M·伍德尔 申请(专利权)人: 化合物光子学公司
主分类号: G02F1/135 分类号: G02F1/135
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 王茂华
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 光学器件具有部署在第一电极层上的电绝缘第一势垒层,部署在第一势垒层上的光电导层,以及部署在光电导层上的载流子限制层。载流子限制层定义遍及其中散布了多个载流子陷阱的体积。另外,电绝缘第二势垒层部署在载流子限制层上,光阻挡层部署在第二势垒层上用于阻挡选定波长频带的光。反射层部署在光阻挡层上用于反射选定波长频带内的光,双折射或者色散层部署在反射层上,以及光透射第二电极层部署在双折射或者散射层上。还公开了一种方法,其中附加层介入在上文详述那些层之间。
搜索关键词: 寻址 空间 调制器 以及 方法
【主权项】:
1. 一种光学器件,包括:第一电极层;电绝缘第一势垒层,其部署在所述第一电极层上;光电导层,其部署在所述第一势垒层上;载流子限制层,其部署在所述光电导层上,所述载流子限制层定义一个体积并且包括遍及该体积分散的多个载流子陷阱;电绝缘第二势垒层,其部署在所述载流子限制层上;光阻挡层,其部署在所述第二势垒层上,用于阻挡选定波长频带的光;反射层,其部署在光阻挡层上,用于反射选定波长频带内的光;双折射或者色散层,其部署在所述反射层上;以及光透射第二电极层,其部署在所述双折射或者色散层上。
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