[发明专利]用于离子植入均匀度的离子束扫描控制方法及系统有效

专利信息
申请号: 200780013079.X 申请日: 2007-04-10
公开(公告)号: CN101421814A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 维克托·本维尼斯特;爱德华·艾斯纳;波·范德贝里 申请(专利权)人: 艾克塞利斯科技公司
主分类号: H01J37/304 分类号: H01J37/304;H01J37/317;G21K5/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王新华
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的实施例是关于一种用于调整被扫描离子射束的带状射束通量的方法。于此方法中,会以一扫描速率来扫描离子射束,而且会在扫描该离子射束时来测量多个动态射束轮廓。经修正的扫描速率会依据该被扫描离子射束的该多个经测量动态射束轮廓而被算出。该离子射束会以该经校正的扫描速率来扫描,以便产生经修正的带状离子射束。本发明还揭示其它方法与系统。
搜索关键词: 用于 离子 植入 均匀 离子束 扫描 控制 方法 系统
【主权项】:
1. 一种测量带状离子射束的通量的方法,包括步骤:以一扫描速率来扫描离子射束;在扫描该离子射束时来测量多个射束电流信号;运用该多个射束电流信号来计算多个动态射束轮廓,其中,该动态射束轮廓代表该带状离子射束的通量。
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