[发明专利]光刻系统和投影方法有效
| 申请号： | 200780014179.4 | 申请日： | 2007-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN101427184A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 彼得·克勒伊特;马尔科·扬-哈科·威兰;斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克;雷姆科·亚赫 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/317;H01J37/302;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;吴贵明 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种形成光刻系统的探针，该用于光刻系统使用黑白记录策略，即，记录或不记录栅格单元，而在诸如晶片的目标表面上产生图形，从而在包括栅格单元的栅格上划分该图形，该图形包括尺寸大于栅格单元的尺寸的特征，在每个单元中探针被“接通”或“断开”，其中，探针在目标上覆盖了明显大于栅格单元的表面区域，并且其中，在特征内，在探针尺寸的范围内实现了位置取决于黑白记录的分布，本发明还涉及基于上述系统的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 投影 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种形成光刻系统的探针，所述光刻系统用于使用黑白记录策略，即，记录或不记录栅格单元，而在诸如晶片的目标表面上产生图形，从而在包括栅格单元的栅格上划分所述图形，所述图形包括尺寸大于栅格单元的尺寸的特征，在每个单元中所述探针被“接通”或“断开”，其中，探针在所述目标上覆盖了明显大于栅格单元的表面区域，并且其中，在特征内，在探针尺寸的范围内实现了位置取决于黑白记录的分布。
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