[发明专利]用于改进局部应用的清洁和/或发泡制剂的发泡性能的新方法有效

专利信息
申请号: 200780015462.9 申请日: 2007-04-16
公开(公告)号: CN101432413A 公开(公告)日: 2009-05-13
发明(设计)人: A·罗索;C·斯托尔茨 申请(专利权)人: 化工产品开发公司SEPPIC
主分类号: C11D3/22 分类号: C11D3/22;C11D1/66;A61K8/60;C11D1/29;A61Q19/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 林柏楠;黄革生
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种改进清洁和/或发泡制剂的发泡性能的新方法、新组合物、制备它们的方法、以及制备包含它们的局部制剂的方法。根据本发明,该方法特征在于,在所述制剂中含有有效量的式(I)R1-O-(G)x-H聚糖苷或式(I)聚糖苷混合物,其中x表示1-5的十进制数,G表示还原糖残基,和R1表示式(A)-CH2-(CHOH)n-CH2-OH的基团,其中n是2、3或4的整数,或者R1表示式(B)-(CH2-CHOH-CH2-O)mH的基团,其中m是1、2或3的整数。本发明还涉及含有式(I)化合物或式(I)化合物的混合物、发泡和/或洗涤表面活性剂以及局部可接受的溶剂的组合物,及其制备方法。本发明还涉及在化妆品、皮肤药物和药物领域中的应用。
搜索关键词: 用于 改进 局部 应用 清洁 发泡 制剂 性能 新方法
【主权项】:
1. 一种改进用于局部应用的清洁和/或洗涤制剂的发泡性能的方法,其特征在于,将有效量的式(I)化合物或式(I)化合物的混合物掺入所述组合物中:R1-O-(G)x-H (I)其中x表示1-5的十进制数,G表示还原糖残基,和R1表示式(A)的一价基团,或者R1表示式(B)的一价基团:-CH2-(CHOH)n-CH2-OH (A)其中n是2、3或4的整数,-(CH2-CHOH-CH2-O)mH (B)其中m是1、2或3的整数。
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