[发明专利]气化系统及其应用有效
申请号: | 200780015735.X | 申请日: | 2007-04-27 |
公开(公告)号: | CN101432401A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | R·E·梵登伯格;F·G·梵东恩;T·P·冯科萨克-格洛夫切夫斯基;H·J·梵德普莱格;P·L·苏德维尔德 | 申请(专利权)人: | 国际壳牌研究有限公司 |
主分类号: | C10J3/48 | 分类号: | C10J3/48;C10J3/78;C10J3/82 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王长青 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种气化系统及其应用,所述气化系统包括气化反应器(43)和合成气冷却容器(44),其中该气化反应器(43)包括:用于保持高于大气压的压力的压力外壳;位于压力外壳下部的渣池;布置在压力外壳内部的界定气化室(47)的气化器壁,在该气化室中在操作期间可以形成合成气,该气化器壁的下部开口部分与渣池流体连通,和该气化器壁的开口上端通过连接管线(51)与合成气冷却容器(44)流体连通;和其中该合成气冷却容器(44)包括用于热的合成气的入口、用于冷却的合成气的出口(49)和在使用时直接使液态水与在气化反应器中形成的热合成气接触的装置(46)。 | ||
搜索关键词: | 气化 系统 及其 应用 | ||
【主权项】:
1. 一种包括气化反应器和合成气冷却容器的气化系统,其中该气化反应器包括:-用于保持高于大气压的压力的压力外壳;-位于压力外壳下部的渣池;-布置在压力外壳内部的界定气化室的气化器壁,在该气化室中在操作期间可以形成合成气,该气化器壁的下部开口部分与渣池流体连通,和该气化器壁的开口上端通过连接管线与合成气冷却容器流体连通;和其中该合成气冷却容器包括用于热的合成气的入口、用于冷却的合成气的出口和在使用时直接使液态水与在气化反应器中形成的热合成气接触的装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际壳牌研究有限公司,未经国际壳牌研究有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780015735.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。