[发明专利]电子束记录装置有效
| 申请号： | 200780017422.8 | 申请日： | 2007-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101443847A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 小原隆;宫崎武司 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光;株式会社克莱斯泰克 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G11B9/10;G11B11/03 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 周少杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种电子束记录装置，其通过使用电子束将信息记录到样本的表面上。该电子束记录装置包括：电子源，其照射电子束；磁检测器，其被配置为移动到照射轴上并移出照射轴，并获取关于照射轴的磁信息；会聚位置控制部分，其根据磁信息计算用于校正电子束关于样本表面的会聚位置的会聚位置校正量；以及会聚位置调整部分，其调整电子束关于样本表面的会聚位置。会聚位置控制部分使会聚位置调整部分根据会聚位置校正量调整电子束关于样本表面的会聚位置。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 记录 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种通过使用电子束将信息记录到样本表面的电子束记录装置，包括：电子源，其照射电子束；磁检测器，其被配置为移动到照射轴上并移出照射轴，并获取关于照射轴的磁信息；会聚位置控制部分，其根据由磁检测器获取的磁信息，计算用于校正电子束关于样本表面的会聚位置的会聚位置校正量；以及会聚位置调整部分，其调整电子束关于样本表面的会聚位置；其中会聚位置控制部分使会聚位置调整部分根据会聚位置校正量调整电子束关于样本表面的会聚位置。
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