[发明专利]制备有序纳米结构化层的方法无效
申请号: | 200780018987.8 | 申请日: | 2007-04-26 |
公开(公告)号: | CN101454239A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 哈桑·萨霍阿尼;萨纳特·莫汉蒂 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郇春艳;樊卫民 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种制备有序纳米结构化层的方法,包括:(a)将包含发色材料的水基组合物施加到基板表面上,(b)对水基组合物施加剪切取向,(c)使所得的有序纳米结构化发色层与多价阳离子盐非共价交联,(d)在水的存在下使所得的交联的有序纳米结构化发色层暴露于选自碳酸、磷酸、乳酸、柠檬酸、硼酸、硫酸及其混合物的酸,以形成有序的纳米结构化阻挡层。 | ||
搜索关键词: | 制备 有序 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种制备有序纳米结构化层的方法,包括:(a)将包含发色材料的水基组合物施加到基板表面上;(b)在向基板的表面施加水基组合物期间或之后对水基组合物施加剪切取向,以形成有序的纳米结构化发色层;(c)使所得的有序纳米结构化发色层与多价阳离子盐非共价交联;以及(d)在水的存在下使所得的交联的有序纳米结构化发色层暴露于选自碳酸、磷酸、乳酸、柠檬酸、硼酸、硫酸、及其混合物的酸,以在有序纳米结构化发色层上形成包含络合物的有序纳米结构化阻挡层,所述络合物包含发色材料、多价阳离子、和酸阴离子;其中酸的存在量不会使交联的有序纳米结构化发色层显著溶解。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780018987.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。