[发明专利]锥束CT半周期闭合螺旋轨迹无效

专利信息
申请号: 200780019137.X 申请日: 2007-05-09
公开(公告)号: CN101453951A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: D·J·霍伊施尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;G06T11/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王 英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种断层摄影设备(10),包括:辐射源(20)、至少一个辐射敏感探测器(30)以及重建系统(40)。该辐射源(20)以一频率沿z轴(16)掠过并且在辐射源(20)围绕成像区域(32)旋转约两周的同时返回其初始位置,其中所述频率约为辐射源(20)围绕成像区域(32)旋转的频率的一半。所述至少一个辐射敏感探测器(30)探测由所述辐射源(20)发射的横贯成像区域(32)内感兴趣体积(52)的辐射,并且生成表示探测到的辐射的数据。重建系统(40)重建探测到的数据以生成感兴趣体积(52)内对象的图像。
搜索关键词: 锥束 ct 周期 闭合 螺旋 轨迹
【主权项】:
1、一种断层摄影设备(10)包括:辐射源(20),其以一频率沿z轴(16)掠过并且在所述辐射源(20)围绕成像区域(32)旋转约两周的同时返回其初始位置,其中所述频率约为所述辐射源(20)围绕所述成像区域(32)旋转的频率的一半;至少一个辐射敏感探测器(30),其探测由所述辐射源(20)发射的横贯所述成像区域(32)内感兴趣体积(52)的辐射,并且生成表示所探测到的辐射的数据;以及重建系统(40),其重建所探测到的数据以生成所述感兴趣体积(52)的图像。
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