[发明专利]新杂环化合物或其盐及其中间体有效

专利信息
申请号: 200780019334.1 申请日: 2007-05-24
公开(公告)号: CN101454319A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 清都太郎;安东纯一;田中正;筒井康裕;横谷麻衣;野口寿也;牛山文仁;浦部洋树;堀切裕正 申请(专利权)人: 富山化学工业株式会社;大正制药株式会社
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;A61K31/4375;A61K31/4985;A61K31/5365;A61K31/542;A61P31/04;C07D519/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈 昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及通式(I)表示的化合物或其盐,其可用作抗菌剂(式中,R1表示任选取代的芳基或杂环基等;X1表示C2-C4亚烷基等;X2、X3和X5独立地表示NH、键等;X4表示低级亚烷基、键等;Y1表示任选取代的二价脂环烃残基或任选取代的二价脂环胺残基;且Z1、Z2、Z3、Z4、Z5和Z6独立地表示氮原子、通式CH表示的基团等,条件是Z3、Z4、Z5和Z6至少之一表示氮原子)。
搜索关键词: 杂环化合物 及其 中间体
【主权项】:
1、通式:[式1]表示的化合物或其盐,[式中,R1表示任选取代的C2-C12烷基、芳基或杂环基;X1表示任选取代的C2-C4亚烷基;X2表示通式NR2表示的基团(式中,R2表示氢原子、任选取代的低级烷基或亚氨基保护基)或键;X3表示通式NR3或CR4R5NR3表示的基团(式中,R3表示氢原子、任选取代的低级烷基或亚氨基保护基;R4和R5相同或不同,各自是氢原子或任选取代的低级烷基,或者R4和R5一起形成桥氧基)或键;X4表示任选取代的低级亚烷基、低级亚烯基或低级亚炔基或键;X5表示氧原子、硫原子、亚硫酰基、磺酰基、通式NR6表示的基团(式中,R6表示氢原子、任选取代的低级烷基、低级烯基或低级炔基或亚氨基保护基)或键;Y1表示任选取代的二价脂环烃残基或任选取代的二价脂环胺残基;Z1、Z2、Z3、Z4、Z5和Z6相同或不同,各自是氮原子或通式CR7表示的基团(式中,R7表示氢原子、卤原子、羟基、氰基、硝基、甲酰基、任选保护或取代的氨基、任选取代的低级烷基、环烷基、芳基、低级烷氧基、环烷氧基、芳烷氧基、烷酰基、脲基或单环杂环基、或者通式Q1CONR8R9、Q1CO2R10或Q1CN表示的基团(式中,R8和R9相同或不同,各自是氢原子、任选取代的低级烷基、环烷基、芳烷基、芳基、低级烷氧基、烷磺酰基或单环杂环基,或者R8和R9与它们所连接的氮原子一起形成任选取代的环状氨基;R10表示氢原子或羧基保护基;Q1表示任选取代的低级亚烷基或低级亚烯基或键)),条件是Z3、Z4、Z5和Z6至少之一是氮原子]。
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