[发明专利]焦谷氨酸衍生物的合成和用途有效

专利信息
申请号: 200780019723.4 申请日: 2007-04-20
公开(公告)号: CN101454309A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 胡利奥·阿尔瓦雷斯布伊拉戈麦斯;何塞·路易斯·努瓦拉罗比斯科;玛·帕兹·马蒂亚马尔丁;索尼亚·瑟娜帕瑞达 申请(专利权)人: 普洛蒂迈德有限公司
主分类号: C07D401/06 分类号: C07D401/06;C07D207/28;C07K5/06;A61K31/4015;A61K31/4425
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 王达佐;韩克飞
地址: 西班牙*** 国省代码: 西班牙;ES
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摘要: 分离的光学活性立体异构体形式的或者其混合物形式的新颖的焦谷氨酸衍生物(I)是可用于增强个体中免疫应答和/或用于治疗肿瘤,细菌、真菌或病毒感染,或者自体免疫疾病的化合物,其中R1是-OH、-ORa,其中Ra是烷基、环烷基、烯基、环烯基、芳基、芳烷基或杂环基;R2、R3和R4独立为H、在酸性条件下水解的氮保护基团或邻苯二甲酰胺;X是药物可接受的阴离子;以及Y是含N基团。
搜索关键词: 谷氨酸 衍生物 合成 用途
【主权项】:
1.合成通式I化合物的基本纯的立体异构体或其化合物的方法其中R1选自-OH、-ORa,其中Ra选自取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的环烷基、取代的或未取代的烯基、取代的或未取代的环烯基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的芳烷基、或取代的或未取代的杂环基;R2、R3和R4独立地选自氢、在酸性条件下水解的氮保护基团或邻苯二甲酰胺;X是药物可接受的阴离子:以及Y是选自下列基团的有机基团(i)通式VIa的含N基团其中虚线与氮原子一起形成取代的或未取代的杂芳基,以及X如前文所定义;或者(ii)通式VIb的含N基团其中X如前文所定义;以及Ra和Rb独立地选自取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的环烷基、取代的或未取代的烯基、取代的或未取代的环烯基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的芳烷基、或取代的或未取代的杂环基;或者Ra和Rb与它们所连接的氮原子一起形成取代的或未取代的杂环;所述方法包括a)使对映纯的通式IV化合物或其混合物其中R1和R2如前文所定义;与通式V化合物反应其中R4如前文所定义;以得到通式III化合物的基本纯的立体异构体或其混合物其中R1、R2和R4如前文所定义;b)将所述通式III化合物的基本纯的立体异构体或其混合物转化成通式II化合物的基本纯的立体异构体或其混合物其中R1、R2和R4如前文所定义;R5选自负电荷或R3,其中R3如前文所定义;以及Y为选自下列基团的含N有机基团(i)当R5是负电荷时,Y是通式VIIa的含N有机基团其中虚线与氮原子一起形成取代的或未取代的杂芳基;或者(ii)当R5是R3时,Y是选自下列基团的含N有机基团(ii.a)通式VIIb的含N基团其中Ra和Rb如前文所定义;或者(ii.b)通式VIIc的含N有机基团其中虚线与氮原子一起形成取代的或未取代的杂芳基;以及Z是药物可接受的阴离子;以及c)使所述通式II化合物的基本纯的立体异构体或其混合物与含有通式HX的酸的酸介质接触以得到所述通式I化合物的基本纯的立体异构体或其混合物,其中X如上文所定义。
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