[发明专利]晶片斜面检查机构有效
| 申请号： | 200780020601.7 | 申请日： | 2007-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101467023A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | C·沃金斯 | 申请（专利权）人： | 鲁道夫科技公司 |
| 主分类号： | G01N21/00 | 分类号： | G01N21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;王小衡 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 此处公开了一种用于捕获晶片边缘成斜面表面的图像的成像传感器。该成像传感器与晶片边缘对准以使得在成像传感器的视野深度范围内的斜面区域最大化。可以使用一个或多个传感器以捕获晶片边缘的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 斜面 检查 机构 | ||
【主权项】：
1. 一种边缘检查成像系统，包括：可移动底座，其耦合到该边缘检查系统的底盘，该可移动底座与晶片边缘相邻并相对该边缘可移动；和至少一个成像传感器，该成像传感器包括光学系统，该光学系统包括用于捕获光学图像的光学传感器，该成像传感器耦合到该可移动底座以便相对于该晶片边缘可移动，该成像传感器相对于该晶片边缘定位从而将该晶片边缘的选定边缘区域保持在该光学系统的景深内，从而使得由该光学传感器所捕获的该选定边缘区域的图像基本对焦。
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