[发明专利]高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材有效
| 申请号： | 200780021093.4 | 申请日： | 2007-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN101460653A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 张守斌;佐佐木勇人;小见山昌三;三岛昭史 | 申请（专利权）人： | 三菱麻铁里亚尔株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/00;C04B35/10;C04B35/48;C04B35/50;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴 娟;孙秀武 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材，该溅镀靶材是通过烧结具有以％(摩尔)计含有10～70％的氧化锆或氧化铪、50％以下(不包括0％)的二氧化硅、根据需要含有0.1～8.4％的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成，该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。 | ||
| 搜索关键词： | 强度 记录 介质 保护膜 形成 用溅镀靶材 | ||
【主权项】：
1. 高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材，所述溅镀靶材是通过烧结具有以％(摩尔)计含有10～70％的氧化锆、50％以下且不包括0％的二氧化硅、剩余部分包含氧化铝和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成，在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13组成的复合氧化物相的组织。
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