[发明专利]微细化的抗蚀图案的形成方法无效
| 申请号： | 200780022977.1 | 申请日： | 2007-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101473271A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 能谷刚;小林政一;岛崎龙太 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/027;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微细化的抗蚀图案的形成方法，具体公开了一种使显影后的抗蚀图案微细化而不大大增加生产成本或降低生产效率的图案形成方法，该方法包括如下步骤：让显影后的抗蚀图案与优选包含非离子表面活性剂的处理液接触60秒或更长时间，从而降低通过显影形成的抗蚀图案的有效尺寸。本发明还提供了通过该方法而微细化的抗蚀图案。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于制造微细化的抗蚀图案的图案形成方法，包括如下步骤：让显影后的抗蚀图案与包含非离子表面活性剂的处理液接触60秒或更长时间，从而降低通过显影形成的所述抗蚀图案的有效尺寸。
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