[发明专利]低水垢潜在性水处理有效

专利信息
申请号: 200780023054.8 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN101472847A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: J·D·吉福德;J·W·阿巴;E·弗里迪纳;A·D·贾;梁荔乡;王璐 申请(专利权)人: 西门子水处理技术公司
主分类号: C02F1/469 分类号: C02F1/469;C02F1/46
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 周 铁;林 森
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了具有低水垢潜在性的电化学处理设备。该设备具有各种涉及层化的阴离子交换和阳离子交换的构型。该处理设备也可包含非均一粒度的离子交换树脂珠粒和/或具有至少一个的室,该室提供导致贯穿该装置的均匀电流分布的主要电阻。
搜索关键词: 水垢 潜在 水处理
【主权项】:
1. 具有阳极室和阴极室的电去离子装置,其包括:位于阳极室和阴极室之间的第一消耗室;与消耗室离子连通的浓缩室;与浓缩室离子连通的第二消耗室;和位于第一消耗室以及阳极室和阴极室中至少一个之间并与它们离子连通的第一隔绝单元。
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