[发明专利]具有对其他室部件最小腐蚀的快速清洁等离子限制环的设备、系统和方法

摘要

公开一种用来从等离子限制环快速去除聚合物膜而对其他等离子蚀刻室零件造成最小腐蚀的设备。该设备包含中心组件、电极板、限制环栈、第一等离子源和第二等离子源。该电极板固定在中心组件的表面，该中心组件中具有沿外圆周形成的通道。第一等离子源设置在该通道内并且沿着中心组件的外圆周，其中第一等离子源用以引导等离子至限制环栈的内圆周表面。远离该第一等离子源设置的第二等离子源用以在蚀刻室内的基片上执行处理操作。

主权项

1. 一种蚀刻室，包含：中心组件；电极板，固定于该中心组件的表面，其中通道沿着该中心组件的外圆周而形成；第一等离子源，设置于该通道内并且沿着该中心组件的外圆周，其中该第一等离子源用以引导等离子至限制环栈的内圆周表面；以及第二等离子源，用以在该蚀刻室内的基片上执行处理操作，该第二等离子源设置为远离该第一等离子源。