[发明专利]无电解镀Ni-P的方法和电子部件用基板无效
申请号: | 200780023609.9 | 申请日: | 2007-06-22 |
公开(公告)号: | CN101479405A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 横田将幸;浅田贤;菊井文秋 | 申请(专利权)人: | 株式会社新王材料 |
主分类号: | C23C18/54 | 分类号: | C23C18/54;C23C18/36;H05K3/24 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种无电解镀Ni-P的方法,其包括:准备基板的工序,该基板具有绝缘性基板、和具有包括相互分离的多个岛状部的规定的图案的铜合金层;准备用于进行无电解镀Ni-P的镀液的工序;准备至少在表面上具有Ni、Ni-P、Co或Co-Ni的固体片的工序;和通过在使多个岛状部中的至少两个岛状部与镀液接触的状态下,使固体片与岛状部的表面接触,选择性地在岛状部的表面形成无电解镀Ni-P覆膜的工序。本发明提供的无电解镀Ni-P的方法,能够选择性地对绝缘性基板上的铜图案实施高精度的镀Ni-P,并且能够在工业上利用。 | ||
搜索关键词: | 电解 ni 方法 电子 部件 用基板 | ||
【主权项】:
1. 一种无电解镀Ni-P的方法,其特征在于,包括:准备基板的工序(a),该基板具有绝缘性基板、和设置在所述绝缘性基板的至少一个面上的铜合金层,该铜合金层由铜或者含有铜的合金形成,并且具有包括相互分离的多个岛状部的规定的图案;准备用于进行无电解镀Ni-P的镀液的工序(b);准备至少在表面上具有Ni、Ni-P、Co或Co-Ni的固体片的工序(c);和通过在使所述多个岛状部中的至少两个岛状部与所述镀液接触的状态下,使所述固体片与所述至少两个岛状部的表面接触,选择性地在所述至少两个岛状部的表面形成无电解镀Ni-P覆膜的工序(d)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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