[发明专利]在化学机械抛光应用中的可调选择性的浆料有效
| 申请号： | 200780024178.8 | 申请日： | 2007-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101479359A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 陈湛;罗伯特·瓦卡西;本杰明·拜尔;迪尼什·卡纳 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种制备化学-机械抛光组合物的方法，该组合物用于抛光至少具有第一层和第二层的基板。该方法包括：提供第一化学-机械抛光组合物及第二化学-机械抛光组合物两者，其中，该第一化学-机械抛光组合物包含具有第一层对第二层的选择性的研磨剂，且该第二化学-机械抛光组合物包含具有第一层对第二层的不同选择性的研磨剂，该第二化学-机械抛光组合物在该第一化学-机械抛光组合物的存在下是稳定的；和将该第一及第二化学-机械抛光组合物以获得该第一层对该第二层的最终选择性的比例混合。本发明进一步提供一种化学-机械抛光基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 应用 中的 可调 选择性 浆料 | ||
【主权项】：
1. 一种制备化学-机械抛光组合物的方法，该组合物用于抛光至少具有第一层和第二层的基板，该方法包括：(a)提供包含研磨剂的第一化学-机械抛光组合物，该研磨剂具有第一层对第二层的第一选择性，(b)提供包含研磨剂的第二化学-机械抛光组合物，该研磨剂具有该第一层对该第二层的第二选择性，其中该第二化学-机械抛光组合物在该第一化学-机械抛光组合物的存在下是稳定的，且其中该第一选择性不同于该第二选择性，及(c)将该第一及第二化学-机械抛光组合物以获得该第一层对该第二层的最终选择性的比例混合。
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