[发明专利]移动基板的微型建构方法和装置无效
申请号: | 200780024452.1 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101479666A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | K·伯伦 | 申请(专利权)人: | 厄利肯鲍泽斯涂层(英国)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李 玲 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 一种聚合体或其它基板(S)向来自合适能量密度的脉冲激光源(12)的图案成型照明曝光的方法,目的是导致表面烧蚀以形成密集的、规则的二维或三维微型结构阵列,其特征在于,该方法包括以下步骤:将含有一连串在固定节距上相同或不相同特征的掩模(13)相对于基板(S)的靶区(14)定位;将均匀激光束(18)投影通过掩模(13),目的是将由掩模(13)的多个特征组成的图像投射到靶区(14)上;使掩模(13)和靶区(14)之间的射束(18)携带的图像缩小;使用于烧蚀的基板(S)在靶区(14)内定位;至少在靶区内时使基板(S)在平行于微型结构投影阵列的一轴线的第一方向(D1)以及在垂直于第一方向的第二方向(D2)上移动;以及控制(20)与靶区(14)中基板(S)的准确位置相关的脉冲激光器(12)的发射。本发明还包括一种装置,其用于通过图案成型照明来烧蚀聚合体或其它基板(S)的表面,以形成密集的、规则的二维或三维微型结构阵列,该装置包括:可脉冲激光源(12);掩模(13),其包含一连串在固定节距上相同或不相同的特征,而且其设置在激光源(12)和靶区(14)之间;照明系统(15),其用于产生均匀的激光束(16)使掩模(13)上的多个特征曝光,而且其设置在激光源(12)和掩模(13)之间;光学投影系统(17),其将掩模图像缩小到靶区(14)上,而且其设置在掩模(13)和靶区(14)之间;基板(S)的双轴平台系统(19),其适于使基板(S)在靶区(14)内在平行于微型结构的规则阵列的一轴线的第一方向以及在垂直于第一方向的第二方向上移动;以及控制系统(20),其使脉冲激光器(12)的发射与靶区(14)中的基板的准确位置连接。 | ||
搜索关键词: | 移动 微型 建构 方法 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种方法,用于将聚合体或其它基板(S)暴露于来自合适能量密度的脉冲激光源(12)的图案成型照明,以便使表面烧蚀以形成密集的、规则的二维或三维微型结构阵列,其特征在于,所述方法包括以下步骤:将含有一连串在固定节距上相同或不相同的特征的掩模(13)相对于基板(S)的靶区(14)定位;将均匀激光束(18)投影穿过掩模(13),以便将由掩模(13)的多个特征组成的图像投影到靶区(14)上;在掩模(13)和靶区(14)之间将射束(18)携带的图像缩小;将用于烧蚀的基板(S)在靶区(14)内定位;至少在靶区内时在平行于微型结构的投影阵列的一轴线的第一方向(D1)以及在垂直于第一方向的第二方向(D2)上移动基板(S);以及控制(20)脉冲激光器(12)相对于靶区(14)中基板(S)的准确位置的发射。
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