[发明专利]非等比纹理合成有效
| 申请号： | 200780024681.3 | 申请日： | 2007-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN101573730A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | S·勒菲芙;H·H·霍普 | 申请（专利权）人： | 微软公司 |
| 主分类号： | G06T7/40 | 分类号： | G06T7/40;G06T5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈 斌 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于生成具有与给定样品相类似的可视外观但具有变化的定向和比例的非等比纹理的非等比纹理合成系统和方法。该变化是通过使用雅可比场来修改纹理合成技术的上采样和校正过程来实现的。经修改的校正过程包括只访问像素的邻接邻居而非非本地像素。只使用邻接邻居的这一约束还允许生成无缝的非等比表面纹理。这通过使用包含被用来从纹理坐标邻域系图的边界外面的一组像素跳到另一图的间接指针的间接映射来实现。该系统和方法还包括使用雅可比场来修改合成放大方案的放大步骤并解决非等比性的非等比合成放大技术。 | ||
| 搜索关键词： | 等比 纹理 合成 | ||
【主权项】：
1.一种用于合成非等比纹理的方法，包括：输入雅可比场和前一分辨率级别的合成像素坐标图像(200、205)；从所述前一分辨率级别的合成像素坐标图像访问正被处理的像素的邻接像素邻居(215)；以及使用所述雅可比场对所述邻接像素邻居的像素坐标进行扭曲以形成经非等比地扭曲的合成纹理邻域，所述合成纹理邻域被用来合成所述非等比纹理(220)。
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