[发明专利]提供排斥性的方法无效

专利信息
申请号: 200780025042.9 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN101484629A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: S·赖纳茨;P·M·墨菲;A·J·麦考尔;G·O·布朗 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: D06M15/277 分类号: D06M15/277;D06M15/576;C08F220/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘 冬;韦欣华
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种对基材提供斥水性、斥醇性、斥油性和斥污物性的方法,所述方法包括将所述基材与组合物接触,所述组合物包含具有任何顺序的式1的重复单元的共聚物:[Rf(CH2)kOC(O)NH(CH2)kOC(O)C(T)CH2]m-[Wq]p-,其中Rf为具有约2-约8个碳原子的直链或支链全氟烷基或其组合,其任选被至少一个氧原子间隔,k各自独立为1-约6的正整数,T为氢或甲基,m为正整数,q为0或正整数,p为0或正整数,且W为(式I)或(式II)或-[R1-X-Y-C(O)-CZ-CH2]-,其中X为任选包含三唑、氧、氮或硫或其组合的具有约1-约20个碳原子的有机二价连接基,Y为O或N(R),其中R为H或C1-C20烷基,Z为H、具有约1-约4个碳原子的直链或支链烷基、或卤素,Rx为C(O)O(R1)、C(O)N(R2)2、OC(O)(R1)、SO2(R1)、C6(R3)gH(5-g)、O(R1)、卤素或R1;R1各自独立为H、CnH2n+1、CnH2n-CH(O)CH2、[CH2CH2O]iR4、[CnC2n]N(R4)2或[CnH2n]CnF2n+1,n为1-约40,R4为H或CsH2s+1,s=0-约40,i=1-约200,R2各自独立为H或CtH2t+1,其中t为1-20,各R3独立为R4、COOR1、卤素、N(R1)2、OR1、SO2NHR1、CH=CH2或SO3M,g为1-5,且M为H、碱金属离子、碱土金属离子或铵。
搜索关键词: 提供 排斥性 方法
【主权项】:
1.一种对基材提供斥水性、斥醇性、斥油性和斥污物性的方法,所述方法包括将所述基材与包含共聚物的组合物接触,所述共聚物具有任何顺序的式1重复单元:[Rf(CH2)kOC(O)NH(CH2)kOC(O)C(T)CH2]m-[Wq]p-      式1其中Rf为具有约2-约8个碳原子的直链或支链全氟烷基或其组合,其任选被至少一个氧原子间隔,各k独立为1-约6的正整数,T为氢或甲基,m为正整数,q为0或正整数,p为0或正整数,和W为或-[R1-X-Y-C(O)-CZ-CH2]-,其中X为具有约1-约20个碳原子的有机二价连接基,其任选包含三唑、氧、氮或硫或其组合,Y为O或N(R),其中R为H或C1-C20烷基,Z为H、具有约1-约4个碳原子的直链或支链烷基、或卤素(halide),Rx为C(O)O(R1)、C(O)N(R2)2、OC(O)(R1)、SO2(R1)、C6(R3)gH(5-g)、O(R1)、卤素(halide)或R1;各R1独立为H、CnH2n+1、CnH2n-CH(O)CH2、[CH2CH2O]iR4、[CnC2n]N(R4)2或[CnH2n]CnF2n+1,n为1-约40,R4为H或CsH2s+1,s=0-约40,i=1-约200,各R2独立为H或CtH2t+1,其中t为1-20,各R3独立为R4、COOR1、卤素、N(R1)2、OR1、SO2NHR1、CH=CH2或SO3M,g为1-5,和M为H、碱金属离子、碱土金属离子或铵。
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