[发明专利]反射光学系统、跟踪系统和全息投射系统及方法无效
| 申请号： | 200780025917.5 | 申请日： | 2007-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101490598A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 阿明·史威特纳 | 申请（专利权）人： | 视瑞尔技术公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22;G03H1/08;G03H1/22;H04N13/00;G02F1/135 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 卢森堡大公*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学反射系统(10，11)，具有用于反射再现光波的反射元件(14，15)，入侧焦点(28)，撞击反射元件(14，15)的再现光波来自该入侧焦点，出侧焦点(26)，反射元件(14，15)反射的再现光波传播到该出侧焦点。本发明还涉及一种具有上述光学反射系统的追踪系统和全息投射系统，以及一种相应的全息投射方法。为了使上述光学反射系统(10，11)完成像差校正、追踪可见区和比现有技术大的再现，根据本发明的光学反射系统包含偏转元件(12，13)，该偏转元件具有光学可控的偏转特性，以及用于光学控制偏转元件(12，13)的偏转特性的偏转控制装置(42，43)，该偏转元件控制光学反射系统(10，11)的至少出侧焦点(26)的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学系统 跟踪 系统 全息 投射 方法 | ||
【主权项】：
1、反射光学系统(10，11)，具有反射元件(14，15)，该反射元件用于反射再现光波，入侧焦点(28)，撞击反射元件(14，15)的再现光波来自该入侧焦点，出侧焦点(26)，反射元件(14，15)反射的再现光波传播到该出侧焦点，偏转元件(12，13)，该偏转元件具有光学可控的偏转特性，以及偏转控制装置，该偏转控制装置用于光学控制偏转元件(12，13)的偏转特性以控制至少出侧焦点(26)的位置。
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