[发明专利]倒平面雪崩光电二极管有效
申请号: | 200780026939.3 | 申请日: | 2007-07-05 |
公开(公告)号: | CN101490856A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | A·波沙尔;M·迈克尔 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蹇 炜 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种雪崩光探测器。根据本发明一方面的设备包括:半导体基底层,包括第一类型的半导体材料。所述设备还包括:倍增层,包括所述第一类型的半导体材料,邻近所述半导体基底层设置。所述设备还包括:吸收层,包括第二类型的半导体材料,邻近所述倍增层设置,使得所述倍增层设置于所述吸收层和所述半导体基底层之间。光耦接所述吸收层以接收和吸收光束。所述设备还包括:所述第一类型的半导体材料的n+掺杂区,限定在所述倍增层的与所述吸收层相反的表面处。在所述倍增层中生成高电场,以倍增响应于对在所述吸收层中接收的所述光束的所述吸收而光生的电荷载流子。 | ||
搜索关键词: | 平面 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
1、一种设备,包括:半导体基底层,包括第一类型的半导体材料;倍增层,邻近所述半导体基底层设置,且包括所述第一类型的半导体材料;吸收层,邻近所述倍增层设置,且包括第二类型的半导体材料,使得所述倍增层设置于所述吸收层和所述半导体基底层之间,其中,光耦接所述吸收层以接收和吸收光束;以及所述第一类型的半导体材料的n+掺杂区,限定在所述倍增层的与所述吸收层相反的表面处,其中,在所述倍增层中生成高电场,以倍增响应于对在所述吸收层中接收的所述光束的所述吸收而光生的电荷载流子。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的