[发明专利]用作除草化合物的吡啶并[2，3-B]吡嗪衍生物有效
| 申请号： | 200780027207.6 | 申请日： | 2007-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN101490051A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | N·B·卡特;M·R·考汀雷;P·J·克劳利;M·D·特恩伯尔 | 申请（专利权）人： | 辛根塔有限公司 |
| 主分类号： | C07D471/04 | 分类号： | C07D471/04;A01N43/60 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张 敏 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及防治植物或抑制植物生长的方法，其包含向植物或向其所在地施用除草有效量的其中R1、R2、R3、R4和R5如权利要求1中定义的式(I)化合物；或其盐或N-氧化物。此外，本发明涉及制备式(I)化合物的方法，涉及包含式(I)化合物的除草组合物和涉及某些新颖的吡啶并[2，3-b]吡嗪。 | ||
| 搜索关键词： | 用作 除草 化合物 吡啶 衍生物 | ||
【主权项】：
1.一种防治植物的方法，其包含向植物或向其所在地施用除草有效量的式(I)化合物![]()
其中R1和R2独立地是氢、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、卤素、氰基、羟基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、芳基或被相同或不同的一到五个R6取代的芳基，杂芳基或被相同或不同的一到五个R6取代的杂芳基；R3是氢、C1-C10烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基、C3-C10环烷基、C3-C10环烷基-C1-C6烷基-、C1-C10烷氧基-C1-C6烷基-、C1-C10氰基烷基-、C1-C10烷氧羰基-C1-C6烷基-、N-C1-C3烷基-氨基羰基-C1-C6烷基-、N，N-二-(C1-C3烷基)-氨基羰基-C1-C6烷基-、芳基-C1-C6烷基-或其中芳基部分被相同或不同的一到三个R7取代的芳基-C1-C6烷基-、杂环基-C1-C6烷基-或其中杂环基部分被相同或不同的一到三个R7取代的杂环基-C1-C6烷基-；R4是芳基或被相同或不同的一到五个R8取代的芳基、杂芳基或被相同或不同的一到四个R8取代的杂芳基；R5是羟基、R9-氧基-、R10-羰氧基-、三-R11-甲硅烷氧基-或R12-磺酰氧基-，R6、R7和R8各自独立地是卤素、氰基、硝基、C1-C10烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基、羟基、C1-C10烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C10烷氧基-C1-C4烷基-、C3-C7环烷基、C3-C7环烷氧基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基-、C3-C7环烷基-C1-C4烷氧基-、C1-C6烷基羰基-、甲酰基、C1-C4烷氧羰基-、C1-C4烷基羰氧基-、C1-C10烷硫基-、C1-C4卤代烷硫基-、C1-C10烷基亚磺酰基-、C1-C4卤代烷基亚磺酰基-、C1-C10烷基磺酰基-、C1-C4卤代烷基磺酰基-、氨基、C1-C10烷基氨基-、二-C1-C10烷基氨基-、C1-C10烷基羰基氨基-、芳基或被相同或不同的一到三个R13取代的芳基、杂芳基或被相同或不同的一到三个R13取代的杂芳基、芳基-C1-C4烷基-或其中芳基部分被相同或不同的一到三个R13取代的芳基-C1-C4烷基-、杂芳基-C1-C4烷基-或其中杂芳基部分被相同或不同的一到三个R13取代的杂芳基-C1-C4烷基-、芳氧基或被相同或不同的一到三个R13取代的芳氧基、杂芳氧基或被相同或不同的一到三个R13取代的杂芳氧基、芳硫基或被相同或不同的一到三个R13取代的芳硫基、杂芳硫基或被相同或不同的一到三个R13取代的杂芳硫基；R9是C1-C10烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基或芳基-C1-C4烷基-或其中芳基部分被一到五个独立地选自下面的取代基取代的芳基-C1-C4烷基-：卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基；R10是C1-C10烷基、C3-C10环烷基、C3-C10环烷基-C1-C10烷基-、C1-C10卤代烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基、C1-C4烷氧基-C1-C10烷基-、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基-、C1-C10烷氧基、C2-C10链烯氧基、C2-C10炔氧基、C1-C10烷硫基-、N-C1-C4烷基-氨基-、N，N-二-(C1-C4烷基)-氨基-、芳基或被相同或不同的一到三个R14取代的芳基、杂芳基或被相同或不同的一到三个R14取代的杂芳基、芳基-C1-C4烷基-或其中芳基部分被相同或不同的一到三个R14取代的芳基-C1-C4烷基-、杂芳基-C1-C4烷基-或其中杂芳基部分被相同或不同的一到三个R14取代的杂芳基-C1-C4烷基-、芳氧基或被相同或不同的一到三个R14取代的芳氧基、杂芳氧基或被相同或不同的一到三个R14取代的杂芳氧基、芳硫基或被相同或不同的一到三个R14取代的芳硫基、杂芳硫基或被相同或不同的一到三个R14取代的杂芳硫基；R11各自独立地是C1-C10烷基或苯基或被一到五个独立地选自下面的取代基取代的苯基：卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基；R12是C1-C10烷基或苯基或被一到五个独立地选自下面的取代基取代的苯基：卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基；R13各自独立地是卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基；以及R14各自独立地是卤素、氰基、硝基、C1-C10烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C10烷氧基、C1-C4烷氧羰基-、C1-C4卤代烷氧基、C1-C10烷硫基-、C1-C4卤代烷硫基-、C1-C10烷基亚磺酰基-、C1-C4卤代烷基亚磺酰基-、C1-C10烷基磺酰基-、C1-C4卤代烷基磺酰基-、芳基或被一到五个独立地选自下面的取代基取代的芳基：卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基或者杂芳基或被一到四个独立地选自下面的取代基取代的杂芳基：卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基；或者其盐或N-氧化物。
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